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  • Q

    SiC MOSFET并联中需要注意哪些事项?

    A

    瞻芯电子的SiC MOSFET栅极电压规范(+20V/-5V)是严格根据JEDEC来做的认证,保证产品在室温下工作寿命不小于10年。对于超出栅极电压规范的应用情况,主要有以下两个方面的考量。

    第一,栅极本身的寿命模型主要由SiO2的TDDB(Time Dependent Dielectric Breakdown 时间依赖的介质击穿)模型来确定,已经有大量的数据表明SiC上生长的SiO2介质层的质量跟Si上生长的SiO2是一样优良的,所以从TDDB的角度来看,20V的栅介质所能承受的更高电压以及在该电压下的寿命模型跟Si MOSFET和IGBT是一致的;瞻芯电子正在用瞻芯自己的SiC MOSFET建立SiO2栅介质工艺和器件的寿命模型。

    第二,SiC MOSFET跟Si MOS产品(MOSFET和IGBT)最大的差别和挑战就在于PBTI(Positive Bias Temperature Instability正偏压温度不稳定性)和NBTI(Negative Bias Temperature Instability负偏压温度不稳定性),加正偏压后器件Vth会增加,加负偏压后器件Vth会减小;在JEDEC认证条件下,在栅极电压规范内工作,器件的寿命是可以得到保证的;对于超出栅压规范的应用寿命模型,瞻芯电子正在搭建设备并且做详细规划和研究;总体说来,只要正栅压不超过25V,负栅压不低于-10V,Duty Cycle比较小的脉冲不会对器件造成性能的不可恢复性损伤,具体的定量关系和寿命模型会在第一轮研究结束时给出。

  • Q

    SiC MOSFET驱动与Si IGBT驱动异同?SiC MOSFET能否沿用IGBT插件驱动板方式驱动?

    A

    瞻芯电子的SiC MOSFET栅极电压规范(+20V/-5V)是严格根据JEDEC来做的认证,保证产品在室温下工作寿命不小于10年。对于超出栅极电压规范的应用情况,主要有以下两个方面的考量。

    第一,栅极本身的寿命模型主要由SiO2的TDDB(Time Dependent Dielectric Breakdown 时间依赖的介质击穿)模型来确定,已经有大量的数据表明SiC上生长的SiO2介质层的质量跟Si上生长的SiO2是一样优良的,所以从TDDB的角度来看,20V的栅介质所能承受的更高电压以及在该电压下的寿命模型跟Si MOSFET和IGBT是一致的;瞻芯电子正在用瞻芯自己的SiC MOSFET建立SiO2栅介质工艺和器件的寿命模型。

    第二,SiC MOSFET跟Si MOS产品(MOSFET和IGBT)最大的差别和挑战就在于PBTI(Positive Bias Temperature Instability正偏压温度不稳定性)和NBTI(Negative Bias Temperature Instability负偏压温度不稳定性),加正偏压后器件Vth会增加,加负偏压后器件Vth会减小;在JEDEC认证条件下,在栅极电压规范内工作,器件的寿命是可以得到保证的;对于超出栅压规范的应用寿命模型,瞻芯电子正在搭建设备并且做详细规划和研究;总体说来,只要正栅压不超过25V,负栅压不低于-10V,Duty Cycle比较小的脉冲不会对器件造成性能的不可恢复性损伤,具体的定量关系和寿命模型会在第一轮研究结束时给出。

  • Q

    如何解决SiC MOSFET 应用中驱动的负压尖峰问题?负压尖峰产生机制是怎样的?有什么应对方法?

    A

    瞻芯电子的SiC MOSFET栅极电压规范(+20V/-5V)是严格根据JEDEC来做的认证,保证产品在室温下工作寿命不小于10年。对于超出栅极电压规范的应用情况,主要有以下两个方面的考量。

    第一,栅极本身的寿命模型主要由SiO2的TDDB(Time Dependent Dielectric Breakdown 时间依赖的介质击穿)模型来确定,已经有大量的数据表明SiC上生长的SiO2介质层的质量跟Si上生长的SiO2是一样优良的,所以从TDDB的角度来看,20V的栅介质所能承受的更高电压以及在该电压下的寿命模型跟Si MOSFET和IGBT是一致的;瞻芯电子正在用瞻芯自己的SiC MOSFET建立SiO2栅介质工艺和器件的寿命模型。

    第二,SiC MOSFET跟Si MOS产品(MOSFET和IGBT)最大的差别和挑战就在于PBTI(Positive Bias Temperature Instability正偏压温度不稳定性)和NBTI(Negative Bias Temperature Instability负偏压温度不稳定性),加正偏压后器件Vth会增加,加负偏压后器件Vth会减小;在JEDEC认证条件下,在栅极电压规范内工作,器件的寿命是可以得到保证的;对于超出栅压规范的应用寿命模型,瞻芯电子正在搭建设备并且做详细规划和研究;总体说来,只要正栅压不超过25V,负栅压不低于-10V,Duty Cycle比较小的脉冲不会对器件造成性能的不可恢复性损伤,具体的定量关系和寿命模型会在第一轮研究结束时给出。

  • Q

    如何解决SiC MOSFET应用中的开关震荡问题?

    A

    瞻芯电子的SiC MOSFET栅极电压规范(+20V/-5V)是严格根据JEDEC来做的认证,保证产品在室温下工作寿命不小于10年。对于超出栅极电压规范的应用情况,主要有以下两个方面的考量。

    第一,栅极本身的寿命模型主要由SiO2的TDDB(Time Dependent Dielectric Breakdown 时间依赖的介质击穿)模型来确定,已经有大量的数据表明SiC上生长的SiO2介质层的质量跟Si上生长的SiO2是一样优良的,所以从TDDB的角度来看,20V的栅介质所能承受的更高电压以及在该电压下的寿命模型跟Si MOSFET和IGBT是一致的;瞻芯电子正在用瞻芯自己的SiC MOSFET建立SiO2栅介质工艺和器件的寿命模型。

    第二,SiC MOSFET跟Si MOS产品(MOSFET和IGBT)最大的差别和挑战就在于PBTI(Positive Bias Temperature Instability正偏压温度不稳定性)和NBTI(Negative Bias Temperature Instability负偏压温度不稳定性),加正偏压后器件Vth会增加,加负偏压后器件Vth会减小;在JEDEC认证条件下,在栅极电压规范内工作,器件的寿命是可以得到保证的;对于超出栅压规范的应用寿命模型,瞻芯电子正在搭建设备并且做详细规划和研究;总体说来,只要正栅压不超过25V,负栅压不低于-10V,Duty Cycle比较小的脉冲不会对器件造成性能的不可恢复性损伤,具体的定量关系和寿命模型会在第一轮研究结束时给出。

  • Q

    如何解决SiC MOSFET应用中驱动负压的建立?这种方式是否可靠?

    A

    瞻芯电子的SiC MOSFET栅极电压规范(+20V/-5V)是严格根据JEDEC来做的认证,保证产品在室温下工作寿命不小于10年。对于超出栅极电压规范的应用情况,主要有以下两个方面的考量。

    第一,栅极本身的寿命模型主要由SiO2的TDDB(Time Dependent Dielectric Breakdown 时间依赖的介质击穿)模型来确定,已经有大量的数据表明SiC上生长的SiO2介质层的质量跟Si上生长的SiO2是一样优良的,所以从TDDB的角度来看,20V的栅介质所能承受的更高电压以及在该电压下的寿命模型跟Si MOSFET和IGBT是一致的;瞻芯电子正在用瞻芯自己的SiC MOSFET建立SiO2栅介质工艺和器件的寿命模型。

    第二,SiC MOSFET跟Si MOS产品(MOSFET和IGBT)最大的差别和挑战就在于PBTI(Positive Bias Temperature Instability正偏压温度不稳定性)和NBTI(Negative Bias Temperature Instability负偏压温度不稳定性),加正偏压后器件Vth会增加,加负偏压后器件Vth会减小;在JEDEC认证条件下,在栅极电压规范内工作,器件的寿命是可以得到保证的;对于超出栅压规范的应用寿命模型,瞻芯电子正在搭建设备并且做详细规划和研究;总体说来,只要正栅压不超过25V,负栅压不低于-10V,Duty Cycle比较小的脉冲不会对器件造成性能的不可恢复性损伤,具体的定量关系和寿命模型会在第一轮研究结束时给出。

  • Q

    瞻芯电子SiC MOSFET是否有正负压应力极限的数据?

    A

    瞻芯电子的SiC MOSFET栅极电压规范(+20V/-5V)是严格根据JEDEC来做的认证,保证产品在室温下工作寿命不小于10年。对于超出栅极电压规范的应用情况,主要有以下两个方面的考量。

    第一,栅极本身的寿命模型主要由SiO2的TDDB(Time Dependent Dielectric Breakdown 时间依赖的介质击穿)模型来确定,已经有大量的数据表明SiC上生长的SiO2介质层的质量跟Si上生长的SiO2是一样优良的,所以从TDDB的角度来看,20V的栅介质所能承受的更高电压以及在该电压下的寿命模型跟Si MOSFET和IGBT是一致的;瞻芯电子正在用瞻芯自己的SiC MOSFET建立SiO2栅介质工艺和器件的寿命模型。

    第二,SiC MOSFET跟Si MOS产品(MOSFET和IGBT)最大的差别和挑战就在于PBTI(Positive Bias Temperature Instability正偏压温度不稳定性)和NBTI(Negative Bias Temperature Instability负偏压温度不稳定性),加正偏压后器件Vth会增加,加负偏压后器件Vth会减小;在JEDEC认证条件下,在栅极电压规范内工作,器件的寿命是可以得到保证的;对于超出栅压规范的应用寿命模型,瞻芯电子正在搭建设备并且做详细规划和研究;总体说来,只要正栅压不超过25V,负栅压不低于-10V,Duty Cycle比较小的脉冲不会对器件造成性能的不可恢复性损伤,具体的定量关系和寿命模型会在第一轮研究结束时给出。

  • Q

    瞻芯电子SiC MOSFET体二极管能抗多大的浪涌电流?

    A

    瞻芯电子的SiC MOSFET栅极电压规范(+20V/-5V)是严格根据JEDEC来做的认证,保证产品在室温下工作寿命不小于10年。对于超出栅极电压规范的应用情况,主要有以下两个方面的考量。

    第一,栅极本身的寿命模型主要由SiO2的TDDB(Time Dependent Dielectric Breakdown 时间依赖的介质击穿)模型来确定,已经有大量的数据表明SiC上生长的SiO2介质层的质量跟Si上生长的SiO2是一样优良的,所以从TDDB的角度来看,20V的栅介质所能承受的更高电压以及在该电压下的寿命模型跟Si MOSFET和IGBT是一致的;瞻芯电子正在用瞻芯自己的SiC MOSFET建立SiO2栅介质工艺和器件的寿命模型。

    第二,SiC MOSFET跟Si MOS产品(MOSFET和IGBT)最大的差别和挑战就在于PBTI(Positive Bias Temperature Instability正偏压温度不稳定性)和NBTI(Negative Bias Temperature Instability负偏压温度不稳定性),加正偏压后器件Vth会增加,加负偏压后器件Vth会减小;在JEDEC认证条件下,在栅极电压规范内工作,器件的寿命是可以得到保证的;对于超出栅压规范的应用寿命模型,瞻芯电子正在搭建设备并且做详细规划和研究;总体说来,只要正栅压不超过25V,负栅压不低于-10V,Duty Cycle比较小的脉冲不会对器件造成性能的不可恢复性损伤,具体的定量关系和寿命模型会在第一轮研究结束时给出。

  • Q

    SiC MOSFET TO247-4比TO247-3的寄生电感改善多少?有没有具体参数?

    A

    瞻芯电子的SiC MOSFET栅极电压规范(+20V/-5V)是严格根据JEDEC来做的认证,保证产品在室温下工作寿命不小于10年。对于超出栅极电压规范的应用情况,主要有以下两个方面的考量。

    第一,栅极本身的寿命模型主要由SiO2的TDDB(Time Dependent Dielectric Breakdown 时间依赖的介质击穿)模型来确定,已经有大量的数据表明SiC上生长的SiO2介质层的质量跟Si上生长的SiO2是一样优良的,所以从TDDB的角度来看,20V的栅介质所能承受的更高电压以及在该电压下的寿命模型跟Si MOSFET和IGBT是一致的;瞻芯电子正在用瞻芯自己的SiC MOSFET建立SiO2栅介质工艺和器件的寿命模型。

    第二,SiC MOSFET跟Si MOS产品(MOSFET和IGBT)最大的差别和挑战就在于PBTI(Positive Bias Temperature Instability正偏压温度不稳定性)和NBTI(Negative Bias Temperature Instability负偏压温度不稳定性),加正偏压后器件Vth会增加,加负偏压后器件Vth会减小;在JEDEC认证条件下,在栅极电压规范内工作,器件的寿命是可以得到保证的;对于超出栅压规范的应用寿命模型,瞻芯电子正在搭建设备并且做详细规划和研究;总体说来,只要正栅压不超过25V,负栅压不低于-10V,Duty Cycle比较小的脉冲不会对器件造成性能的不可恢复性损伤,具体的定量关系和寿命模型会在第一轮研究结束时给出。

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